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課程名稱 |
電漿工程專題
Special Topics on Plasma Engineering |
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開課學期 |
100-1 |
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授課對象 |
工學院 化學工程學研究所 |
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授課教師 |
徐振哲 |
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課號 |
ChemE7037 |
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課程識別碼 |
524 M6160 |
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班次 |
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學分 |
3 |
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全/半年 |
半年 |
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必/選修 |
選修 |
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上課時間 |
星期四7,8,9(14:20~17:20) |
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上課地點 |
綜203 |
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備註 |
本課程中文授課,使用英文教科書。
總人數上限：20人 |
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Ceiba 課程網頁 |
http://ceiba.ntu.edu.tw/1001PlasmaEng |
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課程簡介影片 |
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核心能力關聯 |
核心能力與課程規劃關聯圖 |
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課程大綱
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課程概述 |
課程概述：介紹電漿相關之物理與化學原理, 以及電漿在工程上之應用。
課程目標：
1. 熟悉基本之電漿物理與電漿化學。
2. 瞭解不同電漿種類之重要特性及可行之檢測方式。
3. 認識電漿在工程上之應用。
4. 對電漿相關之研究有一概括性之認識。
授課方式: 講授課程, 輔以投影片與影片, 最後二週由同學進行期末報告。
課程用書:
1. M. A. Lieberman and A. J. Lichtenberg, “Principles of Plasma Discharge and Materials Processing”, John Wiley & Sons, Inc. 2005.
2. R. Hippler, H. Kersten, M. Schmidt, and K. H. Schoenbach, “Low Temperature Plasmas – Fundamentals, Technologies, and Techniques”, Wiley-VC, H2008.
評分方式:
Midterm exam 25%
Homework 25%
Proposal abstract 10% (abstract)
Abstract presentation 20% (discussion, presentation, and participation)
Final report 20% (report)
Proposal presentation Optional, up to 10 points.
課程大綱:
1. 緒論
2. 氣體動力與粒子碰撞
3. 電漿化學
4. 不同電源型式之電漿種類
5. 低壓與常壓電漿
6. 水溶液電漿與微電漿
7. 電漿檢測
8. 電漿在半導體製程上之應用
9. 電漿在材料上之應用
10. 電漿在生醫上之應用
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課程目標 |
了解基本電漿物理與電漿化學, 並評估電漿在特定領域的應用 |
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課程要求 |
課程前段以講述基礎電漿物理與電漿化學為主, 後半則要求同學參與, 討論電漿在各領域上應用的優勢與限制 |
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預期每週課後學習時數 |
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Office Hours |
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指定閱讀 |
M. A. Lieberman and A. J. Lichtenberg, “Principles of Plasma Discharge and Materials Processing”, John Wiley & Sons, Inc. 2005. |
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參考書目 |
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評量方式
(僅供參考) |
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週次 |
日期 |
單元主題 |
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第1週 |
9/15 |
Introduction and Basic Equations |
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第2週 |
9/22 |
Basic Equations and Optical Emission Spectroscopy demonstration |
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第3週 |
9/29 |
Gas kinetics, Atomic collisions, Gas temperature estimation using spectroscopy |
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第4週 |
10/06 |
Molecular emission, temperature estimation, and actinometry |
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第8週 |
11/03 |
Midterm |
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第9週 |
11/10 |
Introduction to Plasmas of Different Types |
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第10週 |
11/17 |
Introduction to Plasmas of different types and applications |
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第12週 |
12/01 |
Plasma Stability and Dielectric Barrier Discharge |
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第13週 |
12/08 |
Plasma Stability, DBD, and plasma diagnostics |
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第14週 |
12/15 |
Abstract Presentation and Plasma in Semiconductor Fabrication |
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第16週 |
12/29 |
More about plasma etching and vacuum technology |
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